武漢理工大學周超蘭等采用化學鍍法制備鈷包覆碳化硅復合粉末,通過研究化學鍍過程中鈷鹽濃度、還原劑濃度、絡合劑濃度、緩沖劑濃度、溫度以及pH值等因素對沉積速率的影響規律,得到化學鍍鈷的優化條件。利用XRD、SEM和EDAX等測試手段對該復合粉末的組分及形貌進行了表征。實驗和表征結果表明,當硫酸鈷濃度為30~50g/L,次磷酸鈉濃度為40g/L,檸檬酸鈉濃度為60~70g/L,控制溫度為50~70℃以及調節pH值等于8時,鍍層沉積速度較快,所得粉體表面被鈷均勻包覆。
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